原位紅外反應(yīng)系統(tǒng) 原位紅外電化學(xué)ATR系統(tǒng): 原位紅外電化學(xué)ATR可以獲得電極表面吸附物種的取向、排列、覆蓋等狀態(tài)信息,是從分子水平研究電極過程的一種有效手段,其中衰減全反射模式的表面增強(qiáng)光譜
原位紅外多少錢一個(gè)樣?合肥原位科技原位實(shí)驗(yàn)室可進(jìn)行多種類型的原位紅外測試,主要用于觀測化學(xué)反應(yīng)過程的中間產(chǎn)物。可提供的測試模式及測試條件如下漫反射模式(DRIFTS)氣固相反應(yīng);最高耐溫500℃、耐壓
原位紅外電化學(xué)池_原位紅外電化學(xué)ATR系統(tǒng)原位紅外電化學(xué)ATR可以獲得電極表面吸附物種的取向、排列、覆蓋等狀態(tài)信息,是從分子水平研究電極過程的一種有效手段,其中衰減全反射模式的表面增強(qiáng)光譜,由于表面選
XRD電化學(xué)原位電解池_原位XRD電化學(xué)反應(yīng)池產(chǎn)品介紹:原位XRD電化學(xué)反應(yīng)池主要用于研究電極材料在液相三電極或兩電極環(huán)境下的物相結(jié)構(gòu)變化。產(chǎn)品參數(shù):液相三電極(或兩電極)電化學(xué)反應(yīng),樣品尺寸為φ5-
原位XRD高溫樣品臺_原位XRD高溫反應(yīng)池一、產(chǎn)品參數(shù)池體材質(zhì):316L不銹鋼;XRD窗口:Be;密封圈:氟膠圈;溫度測試范圍:常溫~300℃;控溫精度:±0.1℃;溫度均勻性:±1℃;氣氛:可通氣氛
原位紅外高溫高壓漫反射池_原位紅外等離子體漫反射池產(chǎn)品參數(shù):·池體主要采用316L不銹鋼材質(zhì),最高耐溫500℃,耐壓3Mpa;/哈氏合金材質(zhì),最高耐溫800℃,耐腐蝕;·反應(yīng)池可以配備高精度觸摸屏溫控
固定床反應(yīng)器作為一種在氣-固相反應(yīng)和液-固相反應(yīng)過程中廣泛應(yīng)用的反應(yīng)裝置。其核心特點(diǎn)在于催化劑或其他反應(yīng)物質(zhì)被穩(wěn)定地固定在反應(yīng)器內(nèi)部的固定床層上,原料氣或液體物料則以一定的流速通過床層,從而進(jìn)行高效的
焦耳加熱爐_快速升溫爐_焦耳加熱裝置通過該裝置,針對導(dǎo)電材料,科學(xué)家可利用其自身的焦耳效應(yīng),對其施加電氣環(huán)境;針對非導(dǎo)電材料,則可通過我司配備的各類耐高溫極速加熱樣品臺進(jìn)行加熱,從而使材料在極短的時(shí)間
電化學(xué)原位紅外光譜儀_電化學(xué)原位紅外ATR系統(tǒng)原位紅外電化學(xué)ATR可以獲得電極表面吸附物種的取向、排列、覆蓋等狀態(tài)信息,是從分子水平研究電極過程的一種有效手段,其中衰減全反射模式的表面增強(qiáng)光譜,由于表
EPR反應(yīng)池EPR反應(yīng)池由扁形池,石英池、連接件和池蓋等構(gòu)件組成,配備了銀-氯化銀電極作為參比電極,配備了鉑絲電極作為工作電極,同時(shí)配備了鉑片電極為對電極,反應(yīng)池可應(yīng)用于三電極電化學(xué)反應(yīng)的原位EPR測
微分質(zhì)譜反應(yīng)池微分質(zhì)譜反應(yīng)池由底座、池體及玻璃池組成,配備了銀-氯化銀電極作為參比電極,鉑絲環(huán)電極作為對電極,反應(yīng)池可在通光、通電狀態(tài)下進(jìn)行材料結(jié)構(gòu)與性能測試。
透射電鏡原位液體系統(tǒng)透射電鏡原位液體系統(tǒng),采用全氟醚O圈輔助密封來封裝液體樣品。實(shí)驗(yàn)中樣品被密封在氮化硅薄膜覆蓋的原位芯片內(nèi),該液體系統(tǒng)可以承載一個(gè)大氣壓,因而實(shí)現(xiàn)在電鏡中的原位液體觀測。性能指標(biāo):1